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1200℃雙溫區(qū)4坩堝分體式HPCVD爐（帶進樣系統(tǒng)）
- 關(guān)鍵字：
- 雙溫區(qū)、開啟式、依次移動
- 型號：
- OTF-1200X-II-ZL
- 產(chǎn)品概述：
- OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內(nèi)部移動的（在真空氣氛保護環(huán)境下移動）管式爐，最多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構(gòu)，可將坩堝在爐管內(nèi)推出后再拉回，讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設(shè)備可進行物理化學混合沉積（HPCVD），快速熱蒸發(fā)（RTE）等實驗，適合制備多層二維晶體材料。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
| 開啟式管式爐
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雙溫區(qū)管式爐：兩個獨立的溫控系統(tǒng)分別獨立控制兩個溫區(qū) 加熱區(qū)長度：溫區(qū)1:200mm, 溫區(qū)2:200mm 爐管材料：高純石英 爐管尺寸：外徑: 60 ×內(nèi)徑: 54×長: 760 mm 溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設(shè)置在800℃時所測，僅供參考）（可點擊圖片查看詳細資料）） 
最高工作溫度：1200℃（<1hr) 連續(xù)工作溫度：1100℃ 控溫精度：+/-1℃  
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| 真空密封
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配有不銹鋼密封法蘭，上面安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表 進氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭，出氣端法蘭接口為KF25接口 法蘭密封圈采用水冷卻，使用時需要通入冷卻水，可在本公司選購循環(huán)水冷機 真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr(采用分子泵)   
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| 坩堝移動機構(gòu)（轉(zhuǎn)輪式法蘭）
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一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入到爐管內(nèi)部，并與坩堝相連接(圖1) 通過步進電機驅(qū)動使坩堝移動，并和熱電偶和坩堝一起移動，實時監(jiān)測樣品的溫度 進氣端法蘭轉(zhuǎn)輪式法蘭（圖2） 可同時在轉(zhuǎn)輪系統(tǒng)中放入4個坩堝，可交替將放入4種材料的石英坩堝自動送入到石英管中（可在真空狀態(tài)或氣氛保護狀態(tài)進行運作）
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| 坩堝移動控制
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通過一步進電機控制坩堝移動的速度和位置 可控制坩堝最小移動位移為1mm 坩堝最大移動距離為200mm   
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| 防腐型數(shù)顯真空計
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| 混氣系統(tǒng)
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| 產(chǎn)品尺寸
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2400L×600W×1300mm H
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| 質(zhì)保
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一年質(zhì)保期，終生維護（不包含爐管，密封圈和加熱元件） |
| 質(zhì)量認證
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| 使用注意事項
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爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài) 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 石英管的長時間使用溫度＜1100℃ 對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐 管破裂，法蘭飛出等）
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| 應(yīng)用注意事項
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| 免責聲明
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| 國家專利
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專利名稱：多樣品單通道自動切換進樣系統(tǒng)及其進樣方法
專利號：ZL 2016 1 0396132.X
尊重創(chuàng)新、鄙視抄襲、侵權(quán)必究 |
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