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Si-Ge晶體
產品概述:
隨著微電子、光電器件以及放射性同位素熱電發電機的不斷發展,人們重新對SiGe單晶材料產生了濃厚的興趣。當SiGe外延層超過臨界厚度時,采用高質量的SiGe單晶替代Si單晶作為外延襯底材料,可以減少Si襯底與Si1-xGex合金層之間過渡層的數目,避免或減少失配位錯,改善量子阱器件的性能。
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技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
產品名稱

Si-Ge 晶體基片


技術參數

晶體結構:            

立方晶系                        

晶格常數:

a=0.5431+0.02x+0.027x2?

電阻:

7-8 ohm-cm

導電類型:

P型不摻雜

生長方法:

直拉(CZ)法生長


產品規格

常規晶向:                 

<100>

常規尺寸:

常規尺寸:dia4″x0.5mm;

拋光情況:

單拋、雙拋

拋光面粗糙度:

< 5A


晶體缺陷

人工生長單晶都可能存在晶體內部缺陷



標準包裝

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝


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