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氟化鑭(LaF3)晶體基片
- 產品概述：
- 氟化鑭廣泛應用于紅外窗口和紫外窗口，棱鏡基片。
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技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
| 產品名稱
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LaF3晶體基片 |
| 技術參數
|
晶體結構： | 三方晶系 | 晶格常數： | a=7.190 ? c=7.367 ? | 純度： | 99.99% | 密度： | 5.936 g/cm3 | 硬度： | 4.5 Mohs | 熔點： | 1493℃ | 生長方向： | <0001> | 熱膨脹系數： | 11.9 x10-6/ K // c 15.8 x10-6/ K // a | 熱導率： | 5.1 W / m.k @ 300K | 光傳輸范圍： | Up to 10.5 micron wavelength 折射率 no : 1.63 ne: 1.597 | 生長方法： | 提拉法 |
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| 產品規格
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常規晶向： | <10-10>、<11-20>、<0001> | 常規尺寸： | 10x10x0.5mm | 拋光情況： | 單拋、雙拋 |
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| 標準包裝
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1000級超凈室，100級超凈袋或單片盒封裝 |
| 晶體缺陷
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人工生長單晶有可能存在晶體內部缺陷。 |
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