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ScO2截止面GdScO3晶體基片
- 產品概述：
- GdScO3基底是原子光滑的（110）晶面GdScO3，其中通過特殊蝕刻處理晶體表面獲得單位晶胞高度。 通過反射高能電子衍射和原子力顯微鏡驗證，GdScO3膜在晶體表面上的同質外延以完美的逐層模式進行。 該技術提供了明確限定的襯底表面，用于這種鈣鈦礦氧化物薄膜的原子調節外延生長。
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本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數等）僅用于宣傳用途，僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差，請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議，或者想了解產品詳細信息及更多參數，請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，請勿將此參數用于招標文件或者合同，科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知，請您諒解。
如果您需要下載產品的電子版技術文檔，說明書（在線閱覽），裝箱單，與售后安裝條件等文件，請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區客戶，購買前請與工作人員溝通，以免給您帶來不便。
技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
| 產品名稱
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ScO2截止面GdScO3晶體基片 |
| 技術參數
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常規晶向: 常規尺寸：10x10x0.5mm, 5x5x0.5mm ； 拋光情況：單拋 表面終止：ScO2層（通過特殊蝕刻） 表面粗糙度：Ra<5 ?；
 GdScO3 (110)晶面的ScO2截止面原子力圖
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