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A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測設(shè)備其他實驗室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實驗室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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4頭電弧熔煉系統(tǒng)（旋轉(zhuǎn)水冷銅坩堝）

型號：: AM-400
產(chǎn)品概述：: AM-400是一款高真空電弧熔煉系統(tǒng)，4個電弧熔煉槍，由4個獨(dú)立的氬弧電源控制。水冷銅坩堝安裝在真空腔體底部，可以旋轉(zhuǎn)，保證合金能夠均勻地熔煉，最大熔煉量為70g(按Fe密度）

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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情

電弧電源	·4個數(shù)字控制的電弧電源，安裝在一個移動架上。 ·每個電源上，有輸出旋鈕，可輸出直流，也可輸出脈沖交流輸入電壓：208~240VAC 單相，50/60Hz 輸出：18V/185A（220VAC輸入 35%占空度） ·最小直流輸出為：5A ·總功率：15KW ·4根電源線需要分別接在4個40A的空氣開關(guān)上
電弧熔煉槍	·4個電弧熔煉槍安裝在真空腔體上 ·每個電弧熔煉槍組成：直徑4mm的鎢針棒和水冷套 ·每個電弧熔煉槍相對于銅坩堝的角度可以調(diào)節(jié) ·最大熔煉量70g（按Fe的密度）或30g(按W的密度）
銅坩堝	·水冷旋轉(zhuǎn)銅坩堝安裝在真空腔體底部 ·銅坩堝尺寸為：100mm直徑×15mm深度 ·旋轉(zhuǎn)速度：1-20rpm(可調(diào)） ·需要水冷卻，水流量＞58L/min,可在本公司選購循環(huán)水冷機(jī) 水冷銅坩堝循環(huán)水冷機(jī)
真空腔體	·水冷真空腔體，SS304不銹鋼材質(zhì)，尺寸Φ300mm×320mmH ·Φ150mm前開門，便于放樣和取樣 ·一個觀察窗口，直徑100mm,可觀察樣品熔煉過程 ·KF40接口，用于連接真空泵 ·ISO63接口用于連接分子泵 ·2個1/4英寸氣體接口，后端安裝有針閥，用于惰性氣體的通入和排出 ·氣壓范圍：10^-6Torr~900torr ·泄露率 < 5.0E10^-7 Pa.l/S
真空泵（可選）	·真空度要根據(jù)所配的真空泵： 10^-3torr (采用機(jī)械泵） 10^-6torr（采用分子泵系統(tǒng)，分子泵與腔體直連）
尺寸
注意&警告事項	·所使用氣瓶上必須安裝減壓閥，輸出氣壓要低于0.02MPa,保證操作人員安全 ·觀察熔煉過程時必須佩戴護(hù)目鏡或防護(hù)面罩 ·此設(shè)備電弧熔煉是在微正壓或低真空環(huán)境下操作（氣壓：0.01-0.11MPa，或正壓0.01MPa至負(fù)壓0.09MPa）,不可在高壓下操作！ ·電弧熔煉操作時，鎢針不可接觸到樣品或銅坩堝！